特点:
以光学聚焦为测量原理, 采用高精度光学检测方式进行精密尺寸测量。不仅可以对准目标影像, 还能观察测量点的表面状态, 对高度,长度,直径,周长等进行测量。放大倍数高,适合精密产品的测量,也可以当作高倍显微镜使用。
用途:
适用于硅片、材料腐蚀、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片测试、半导体材料、线束加工蚀刻、液晶电池盖、导线框架等产品的检查观察.也适用于经过磨抛、化学处理的工件表面的金相组织结构,几何形状进行显微观测。并且有XYZ三个方向的测量功能。是精密零件,集成电路,半导体芯片,光伏电池,光学材料等行业的适用仪器。